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纳米压印公司权威发布_纳米压印公司排名前十(2024年12月精准访谈)

内容来源：威名网所属栏目：观点更新日期：2024-11-30

纳米压印公司

佳能2024年推出低成本芯片制造设备佳能计划在2024年推出一种颠覆性的低成本芯片制造设备，以改变整个行业的格局。佳能的高管武石洋明在1月27日的一次采访中透露，公司正在开发一种采用纳米压印技术的光刻设备FPA-1200NZ2C，预计将在今年或明年正式上市。去年10月，佳能宣布推出FPA-1200NZ2C，声称这款设备能够制造5纳米芯片。佳能方面表示，新设备的成本将比荷兰ASML的EUV设备少一个数量级，同时耗电量也将减少90%。这项技术的推出将大大降低芯片制造的成本，同时提高生产效率，对半导体行业产生深远影响。

光学科技赋能AR眼镜，产业链新贵崭露头角！腾景科技于9月4-24日期间接待多家机构调研，2024年上半年，公司积极把握AI算力驱动下高速光通信元器件需求增长的市场机遇，进一步扩大光通信业务规模；生物医疗、半导体设备等新兴应用领域业务持续开拓，光学模组产品收入增速明显。实现营业收入21150.98万元，同比增长26.77%；归属于上市公司股东的净利润3282.42万元，同比增长60.98%。调研过程中，公司透露，2024年上半年，公司稳步推进合肥控股子公司的功能晶体材料和器件建设项目，部分产品开始批量化生产；南京分公司开展的AR领域的纳米压印衍射波导片产品，逐步开展产品试样验证，AR近眼显示光机模组初步完成产品开发并进一步迭代；完成对美国GouMax公司的收购及增资，纳入合并报表范围。通过系列举措进一步延伸公司产品线，公司已逐步形成从材料-元组件-器件-模块/设备的垂直整合能力，发展空间进一步拓宽，市场竞争力进一步增强。⠊ 在AR领域，公司专注于底层光学技术的开发及应用，已有棱镜组合、模压玻璃非球面透镜、几何光波导组件等精密光学元组件产品应用于AR眼镜中。同时公司正在进行AR纳米压印衍射波导片及光机模组的产品技术开发及验证，逐步实现从光学元件、组件到光机模组的垂直整合能力。⠊ 风险提示：调研内容仅为机构与上市公司间的业务交流，不构成投研观点，信息以上市公司公告和分析师公开报告为准。

佳能向研发实验室运送第一台纳米压印芯片制造机器光刻技术不需要光源，不像ASML复杂的极紫外线方法 iconDan罗宾逊佳能公司已将其第一台纳米压印光刻机运往德克萨斯电子研究所，供其研发实验室使用。我们被告知，这项技术可以用模具而不是光来制造5nm的电路图案，并将它们转移到半导体晶圆上。去年10月，这家日本跨国公司透露，它正在将一种使用纳米压印光刻技术的半导体制造系统商业化，其第一个实现装置将是一个房间大小的单元，命名为FPA-1200NZ2C。现在，这家成像巨头已经向德克萨斯电子研究所(TIE)运送了一个纳米压印光刻箱。TIE是一个成立于2021年的半导体联盟，由德克萨斯大学奥斯汀分校、众多芯片公司、其他公共部门和学术组织共同支持。这台机器将用于先进半导体的研发和原型生产。根据佳能的说法，它的纳米压印光刻工艺比使用传统光学方法的竞争对手更便宜，能耗更低。它不需要光源，荷兰巨头ASML等公司最新的光刻设备涉及极紫外光(EUV)波长，很难使用。相比之下，纳米压印系统需要将电路图案转移到晶圆表面的抗蚀剂涂层上，使用像邮票一样压入的模具。这听起来很简单，但佳能坚持认为，要使它可靠地工作有很多问题，这就是为什么这项技术长期以来被视为一项挑战。业内专家此前曾表示怀疑，高德纳公司(Gartner)的分析师古普塔(Gaurav Gupta)去年佳能首次宣布该技术时，就对该技术表示怀疑。他说，在前沿节点的研究和开发与高容量执行之间存在很大差距——如果机器用于开发和原型制作，这可能无关紧要。尽管存在这些挑战，佳能声称掩模上的精细电路图案可以在晶圆上忠实地再现，实现最小线宽为14nm的图案。该公司声称，这相当于目前用于制造许多最先进逻辑芯片的5nm工艺技术。但还有一个问题是，模具或口罩是如何生产的。答案是，这些也是用另一台机器创造的-佳能制造的，当然。佳能负责光学产品的副首席执行官岩本和典(Kazunori Iwamoto)预计，在未来五年内，每年将售出约10至20台纳米压印光刻设备。今年7月，美国国防部高级研究计划局(DARPA)授予TIE 8.4亿美元，用于为美国军方开发下一代高性能半导体系统。这笔资金将用于建立一个国家开放的研发和原型制造设施，以及对该大学现有的两个制造设施进行现代化改造。

佳明F8新表？传闻再起？ 𐟓… 佳明（Garmin）最近在智能手表领域又有新动作，传闻其将推出采用Micro LED屏幕的新品。这一消息得到了进一步证实，因为佳明与Micro LED面板供应商Vuzix签订了合作合同。 𐟔 在佳明Connect应用中，我们发现了两款新智能手表的踪迹：F䓮ix 8 Pro和F䓮ix 8 Micro LED。其中，F䓮ix 8 Micro LED尤为引人注目，因为它将是对现有AMOLED屏幕的重大升级。 𐟔Ž 科技媒体the5krunner深入挖掘后发现，佳明在今年5月与Vuzix公司签署了一份“多阶段开发合同”，旨在开发一种基于纳米压印波导的下一代显示系统。这表明，佳明有意在未来某个阶段推出采用Micro LED技术的产品。 𐟤” 不过，目前尚不清楚这款Micro LED手表是否会纳入Fenix 8系列。我们期待更多细节的披露，以确认这一新技术的实际应用。

利和兴(301013.SZ)：公司的全自动纳米压印技术主要是运用自动控制相关技术

纳米压印技术：不同方式的详细对比在对衬底基片进行旋涂后，就可以开始压印了。前面我们已经介绍了压印的一些基本分类，现在我们来详细看看热压印、紫外光压印、步进式、滚动式以及全面积压印这几种方式。热压印 𐟔劧ƒ�‹印是通过加热使聚合物变得流动性，当温度高于聚合物的玻璃化温度时，用一定的压力将模板压入，保持压强超过最高温度的持续时间，这样可以让不同部位的聚合物充分填入模板图案的间隙。然后，当聚合物冷却到玻璃化温度以下时，模板与聚合物分离脱模，从而将模板的图案转移到聚合物上，完成压印。紫外光压印 𐟌ž 紫外光压印是将模板与涂有光刻胶的基片对准，然后以适当的力施压于模板，使其压入胶膜中。等待光刻胶将模板中的空隙填满后，开启紫外灯进行曝光。由于光刻胶中含有光敏剂，在吸收了紫外线的能量后，光刻胶迅速固化，脱模即可得到与模板结构对应的图形。全面积压印 𐟌 全面积压印按照施加压力的方向可以分为直接加压在模具上、抽真空以及直接加压在基片上。加压施力的面积覆盖了整个模具与压印胶的接触面积，使得模具与压印胶充分接触。全面积压印在加工过程中会遇到一些问题，比如注入基片表面不平整、模具与基片背面不平整、加压时基片与模具之间不平发生侧滑、接触面存在粉尘颗粒等。软膜压印 𐟛᯸ 德国的SUSS公司开发出了一种基于软膜压印的技术，叫做SCIL技术。这种技术利用软膜的弹性来补偿模板和基片之间的不平整度，从而提高压印的精度和效率。步进式压印 𐟚𖢀♂️ 步进式压印简单来说就是“打一枪换一个地方”，类似于现在光刻机中对点加工光刻的过程。光刻胶的流动填充行为与对应的紫外及热压应的过程相同，但对机器的位移定位和驱动精度要求很高，必须精确地步进至设定的位置。研究的重点是如何优化工艺，在保证复型精度的前提下，采用尽量少的液滴，取得更薄的初始膜厚，并且改进滴液的形式，以获得均匀性更好的抗蚀层。目前最好的是在8英寸的晶圆上步进压印后取得12nm左右分辨率。滚动式压印 𐟌€ 滚动式压印具有连续制备、设备简单、产量高、成本低以及能源消耗少等优点，是最有潜力的纳米压印产业化趋势。与传统的平板式纳米压印相比，滚动纳米压印仅发生在与模板接触的区域，大大减少了由受力不均匀和平板不平整等问题带来的负面效应。通过这些对比，我们可以看到不同压印方式各有优缺点，选择合适的方法对于提高生产效率和产品质量至关重要。

挑战ASML！日本佳能首台纳米压印设备出货佳能公司最近宣布，已于上月底向总部位于美国德克萨斯州的半导体联盟——德克萨斯电子研究所（TIE）运送其最先进的纳米压印光刻（NIL）系统FPA-1200NZ2C 。该制造系统运用纳米压印重大突破技术，无需DUV或EUV光源也能造出5nm芯片。最终可能会达到 2nm节点。目前已交付美方相关研究所进一步研究验证。一旦技术验证达标，未来芯片制造将像压印邮票一样方便高效，这将对荷兰ASML光刻机占据的主流市场形成巨大压力！同时也展现日美半导体产业技术联盟取得了实质革命性的进展！「财经」「a股」「专家预测a股开盘即收盘」

【「新维度产业级纳米压印模板制造线已于节前就位！」】 2024年9月底，「苏州新维度微纳科技有限公司」突破重重艰难，历经两年时间，终于成功引进了国际某著名电子束光刻设备厂家的产业级电子束光刻设备。这一里程碑标志着新维度建成了国内首条专业的纳米压印模板制造线，打造纳米压印技术领域全生态产业链的高精度制造平台迈出了重要一步。新维度产业级纳米压印模板制造线已于节前就位！

纳米压印技术能取代光刻机吗科技的发展真是让人惊叹不已！今天我们要聊一聊一个热门话题：纳米压印技术能否取代光刻机？这个问题不仅关乎未来科技的走向，还直接影响到半导体行业的发展。让我们一起来探索吧！ --- 一、纳米压印技术概述纳米压印技术（NIL）是一种利用机械转移手段实现高精度微纳加工的技术✨。我发现它在超高分辨率和低成本方面有着显著的优势𐟒ᣀ‚ 这项技术不仅能够满足现代半导体行业的需求，还为未来的发展提供了广阔的空间𐟚€。 - 1️⃣ 超高分辨率：我了解到，纳米压印技术的加工精度可以达到2纳米，这真的是让人惊叹𐟘𒯼 相比传统光刻技术，这种超高分辨率使得它在微纳加工领域展现出无与伦比的潜力✨。想象一下，这样的精度可以帮助我们制造出更小、更复杂的电子器件，真是太酷了！𐟎‰ - 2️⃣ 低成本：从我的经验来看，纳米压印技术的模板可以反复使用，这大大降低了生产成本𐟒𐣀‚ 相比于光刻机需要频繁更换光掩模，NIL在经济性上具有明显优势𐟑。这对于初创企业或者小规模生产来说，无疑是一个福音！𐟎Š - 3️⃣ 易量产：我发现，随着技术的发展，纳米压印技术有望实现大规模生产𐟓ˆ。这意味着一旦成熟，我们就可以以更快的速度和更低的成本满足市场需求𐟌。想想看，如果每个人都能享受到这样的科技成果，那真是太棒了！𐟌ˆ --- 二、纳米压印技术与光刻机对比在微纳加工领域，纳米压印技术和光刻机各有千秋。𐟌Ÿ 我发现，纳米压印技术在某些方面展现出强大的替代潜力！𐟒ከ🙨ˆ‘想起了我在实验室时看到的各种新奇技术，真的是令人兴奋！𐟎‰ - 1️⃣ 避免光学衍射：我个人觉得，纳米压印技术的最大优势之一就是它不需要依赖光学衍射来进行图案转移！✨ 这种机械转移方式让我想到了3D打印，既精准又高效。𐟚€ 而且，这种方式可以达到超高的分辨率，甚至可以做到2纳米的精度！𐟒 2️⃣ 光刻机技术成熟：当然，光刻机作为传统技术，它的成熟度和产业链的完善性也是不容忽视的。𐟔— 我记得我的姐姐在半导体行业工作，她常常提到光刻机的稳定性和可靠性。𐟑 虽然面临着极限尺寸加工的瓶颈，但它依然是目前市场上最为广泛使用的技术之一。𐟓Š --- 三、纳米压印技术的最新进展近年来，纳米压印技术在微纳加工领域取得了令人瞩目的进展！𐟌Ÿ 我发现，这项技术在材料、工艺和设备方面都有了显著提升，真的是让人惊喜不已！✨ 今天就来和大家聊聊这些最新的突破吧！𐟎‰ - 1️⃣ 材料创新：我最近了解到，纳米压印技术正在使用光刻胶代替传统的热固性材料，这样一来，加工精度和稳定性都有了很大的提升！𐟑 这让我想起我的舍友，她在研究中也提到过这种材料的优势，真的是太重要了！𐟎€Œ且，光刻胶的应用使得整个生产过程变得更加高效哦！𐟌ˆ - 2️⃣ 工艺优化：在工艺方面，我发现注入式加工逐渐取代了传统的压印式，这样可以减少高压和加热对器件的损害！𐟌Ÿ 我有个同学在实验室测试这个新工艺时，效果真的让人刮目相看，成功率大大提高了！𐟑 这种优化让我们对未来的生产效率充满期待呢！𐟚€ - 3️⃣ 设备开发：荷兰ASML等公司最近开发出基于纳米压印技术的新一代光刻机，这让我感到非常振奋！𐟒– 我记得姐姐曾说过，设备的更新换代对于整个行业的发展至关重要，而这次进展正是一个好兆头！𐟔犨🙦 𗧚„设备不仅提升了生产能力，还为未来的半导体制造打开了新的大门哦！𐟔“ --- 四、纳米压印技术取代光刻机的挑战纳米压印技术虽然展现出强大的潜力，但在实际应用中仍面临不少挑战。𐟤” 这些挑战不仅影响了它的普及速度，也让很多行业人士对其未来发展保持谨慎态度。⚠️ 接下来，我将分享一些我了解到的关键问题，希望能帮助大家更好地理解这个领域。𐟌Ÿ𐟒ክ 1️⃣ 技术成熟度低：我发现，纳米压印技术目前还处于实验室研究阶段，工业应用还不够成熟。𐟔슨🙥𐱦„味着我们在实际操作中会遇到很多未知的问题，比如生产稳定性和一致性方面。𐟛 ️ 像我的同学在做相关项目时，就常常需要反复调整参数来达到理想效果，真的很考验耐心呢！𐟘… - 2️⃣ 模具耐用性问题：模具的耐用性也是一个大问题！𐟘𑊦ˆ‘有个舍友在研究这个领域，她提到模具磨损严重，导致生产成本上升。𐟒𘊨€Œ且，光刻胶的稳定性也需要进一步提高，否则会影响最终产品的质量，这可不是小事哦！⚡ - 3️⃣ 大型面板加工：大型面板加工是另一个亟待解决的挑战。𐟓 我了解到，虽然纳米压印技术在小尺寸加工上表现优异，但在大规模生产时效率和产出量仍然有待提高。𐟓ˆ 这让我想起了朋友们讨论过的案例，很多公司在尝试将其应用于大尺寸面板时都遇到了瓶颈，这真是让人头疼啊！𐟘銊--- 五、纳米压印技术的未来展望随着技术的不断进步，纳米压印技术正在逐渐崭露头角✨。我发现，这项技术不仅在半导体领域有着巨大的潜力，还可以应用于多个新兴领域𐟌Ÿ。未来，纳米压印技术有望成为推动行业发展的重要力量𐟒ꣀ‚ - 1️⃣ 技术突破：我的经验是，解决现有技术难题是纳米压印技术发展的关键𐟔‘。比如，提升制造速度和降低成本将使其在市场上更具竞争力𐟓ˆ。我看到一些研究团队已经在这方面取得了初步成果，让人非常期待！𐟘„ - 2️⃣ 应用拓展：我发现，纳米压印技术不仅限于微电子领域，它的应用范围正不断扩大𐟌。例如，在光子学和微机械系统等领域，它都能发挥出色的效果𐟒ᣀ‚ 这让我想起我的同学，他在做相关项目时就用到了这种技术，效果非常惊艳！✨ - 3️⃣ 产业协同：在我看来，产业协同发展是推动纳米压印技术进步的重要因素𐟔—。上下游产业链的紧密合作，将有助于提升整个半导体行业的效率和创新能力𐟚€。就像我身边的一些朋友，他们在不同公司工作，但总是能找到合作机会，共同推进项目进展𐟤。 --- 总结与建议 𐟓‹ 纳米压印技术确实展现出极大的潜力，尤其在分辨率和成本方面非常有优势。然而，要完全取代光刻机，仍然有许多挑战需要克服。相信在未来，随着技术的进步，纳米压印技术会在半导体领域发挥更加重要的作用。让我们拭目以待吧！

美国为了阻止中国自研光刻机，开始让荷兰的光刻机公司倾销光刻机

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