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光刻公司最新视觉报道_国产光刻机2024(2024年11月全程跟踪)

内容来源：威名网所属栏目：热点更新日期：2024-11-26

光刻公司

科技自主可控之：半导体掩膜版概念梳理及最新核心龙头概念股一览！注释：掩膜版（Photomask），又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上。掩膜版是芯片制造过程中的图形“底片”，用于转移高精密电路设计，承载了图形设计和工艺技术等知识产权信息。 1、清溢光电：公司主要从事掩膜版的研产销。公司大尺寸高精度掩膜版7650A胶厚涂胶良率可达到80%。公司平板显示掩膜版的客户有京东方、惠科、天马等。公司半导体芯片用掩膜版技术目前已实现250nm工艺节点的6英寸和8英寸半导体芯片用掩膜版的量产，正在推进180nm半导体芯片用掩膜版的客户测试认证，开展130nm-65nm半导体芯片用掩膜版的工艺研发和28nm半导体芯片所需的掩膜版工艺开发规划。 2、龙图光罩：公司是国内稀缺的独立第三方半导体掩膜版厂商。2022年公司在国内第三方掩膜市场中占国产厂商的份额为13.19%-26.39%。公司与中芯集成、士兰微、华虹半导体等国内主流晶圆厂达成稳定合作。针对130-65nm制程节点的半导体掩膜版产品开发及产业化，公司已做好技术储备及设备订购，预计24年年内可实现小规模试产。 3、路维光电：公司专注掩膜版的研产销，产品主要应用于平板显示、半导体、触控和电路板等行业。公司已具有G2.5-G11全世代掩膜版生产能力，可以配套平板显示所有世代产线；实现了180nm及以上制程节点掩膜版量产，并储备了150nm制程节点半导体掩膜版制造关键核心技术，可以满足国内先进半导体封装和半导体器件等应用需求。 4、冠石科技：公司全资子公司宁波冠石半导体有限公司计划投资16.10亿元用于建设“光掩模版制造项目”，预计将分别于25年实现45nm光掩膜版的量产。 5、菲利华：公司在国内独家研发生产G8.5代光掩膜基板，打破了长期以来国外垄断。 6、芯基微装：公司深耕泛半导体直写光刻设备与PCB直接曝光设备，同时不断推出用于IC掩膜版制版、IC载板、先进封装、光伏电池曝光等细分领域的泛半导体直写光刻设备。在制版光刻机领域，随着半导体掩膜版图形尺寸及精度随着半导体技术节点的演化而逐步提升，目前主流制程在100-400nm工艺区间，公司满足量产90nm节点制版需求的光刻设备即将交付客户。 7、凯盛科技：公司是半导体晶圆玻璃基板唯一的国产材料供应商，同步进行玻璃通孔TGV（1平方毫米百万孔）研发。光掩膜版对于石英玻璃基板的要求非常高。 8、安泰科技：公司OLED显示屏掩膜版用INVAR箔材项目按计划正常推进。目前，公司一直与后端客户保持密切沟通，根据客户及市场需求推进产业化。公司停牌了高精密光掩膜版的原材料因瓦合金箔制备技术，成功开发出新产品并通过产线验证，目前正在积极推进产业化生产，实现国产化替代。

国产光刻胶实现重大突破，光刻胶概念梳理及最新核心龙头概念股一览！ 1、晶瑞电材：公司光刻胶产品主要用于半导体晶圆厂前道工序中光刻和显影等环节，由子公司瑞红苏州生产。瑞红苏州市国内光刻胶领域的先驱，拥有紫外宽谱系系列光刻胶、g线系列光刻胶、i先系列光刻胶等近百种型号光刻胶量产供应市场。在DUV高端光刻胶方面，已有多款KrF光刻胶量产，ArF光刻胶多款产品已向客户送样。 2、怡达股份：公司可用于光刻胶领域的湿电子化学品主要有电子级丙二醇甲醚和电子级丙二醇甲醚乙酸酯等产品，公司表示部分湿电子化学品可用作某些光刻胶的稀释剂等。 3、国风新材：公司在研光刻胶为光敏聚酰亚胺（PSPI）光刻胶，相比于传统光刻胶，PSPI光刻胶本身既起光刻作用又是介电材料，可大大缩短工序，提高生产效率。目前公司相关产品仍处于研发阶段，暂未量产。 4、双乐股份：公司用于面板光刻胶的颜料的产线已经投资建设完成，目前产品在测试和改进中。 5、容大感光：公司光刻胶产品包括PCB光刻胶、显示用光刻胶、半导体用光刻胶等。PCB光刻胶所需原材料已经国产化，显示用及半导体光刻胶有部分原材料需要进口。 6、南大光电：公司在193nm浸入式光刻胶产品开发方面处于领先地位。控股子公司宁波南大光电的光刻胶研发中心具备了研制功能单体、功能树脂、光敏剂等光刻胶材料的能力，能够实现从光刻胶原材料到光刻胶产品及配套材料的全部自主化。目前研发的三款ArF光刻胶产品已在下游客户通过认证并实现销售，多款产品正在主要客户处认证。 7、强力新材：公司为国内专用电子化学品核心厂商，开发系列肟脂类高感度光引发剂；公司半导体光引发剂包括可以用在i线胶中多种类型的光致产酸剂、高感度肟脂类光引发剂以及光增感剂，可以用在KrF及ArF胶系列光致产酸剂产品。 8、高盟新材：公司参股3.67%北京科华属于国内半导体光刻胶领域的头部企业，其国内大客户的拓展进度明显加快。 9、广信材料：公司目前主要产品分为光刻胶及配套材料、涂料等两大类。其中，光刻胶及配套材料应用领域从pcb、显示及半导体扩展到光伏领域。 10、世名科技：公司“光刻胶颜料分散液”项目进展顺利。公司已在部分光刻胶单体合成关键技术上取得了阶段性成果，同时部分单体产品已进入实验中试阶段，近期将对中试结果进行下游客户应用评测。 11、艾森股份：公司先进封装负性光刻胶在盛合晶微测试认证中。公司光刻胶产品覆盖晶圆制造、先进封装和半导体显示等应用领域。 12、宝丽迪：公司成功研发红色纳米色浆，可用于光刻胶领域。目前公司已经完成部分光刻胶色浆样品验证，并且正在进行多批次、重复性、稳定性等应用测试，目前还未形成销售。 13、华懋科技：公司持有23.99%的徐州博康是国内少数有能打通光刻胶上游材料的全产业链公司，其聚合与提纯工艺也是其核心竞争力之一。 14、飞凯材料：目前公司TMO光引发剂的生产设施已经完善，正在等待有关批文。其次，公司已在欧洲对TMO光引发剂进行布局。公司正性光刻胶和负性光刻胶设计的产线总产能各为2500吨。 15、常青科技：公司产品2-乙烯基萘可用于高端光刻胶的生产。 16、江化微：公司生产的光刻胶配套试剂主要用于半导体和平板显示领域。 17、圣泉集团：公司自主研发了光刻胶用线性酚醛树脂、KrF光刻胶配套用PHS树脂等产品。 18、彤程新材：目前我国KrF光刻胶和ArF光刻胶的国产化率还处于较低水平。公司专注于打造先进工艺制程光刻胶及配套材料的研发与量产平台。公司已经完成ArF光刻胶部分型号的开发，首批ArF光刻胶的各项出货指标对标国际光刻胶大厂产品，已具备量产能力。 19、七彩化学：公司紫外正型光刻胶中间体已经实现销售。上虞新利“2000吨/年光敏性中间体及600吨/年高性能光刻胶系列产品技改项目”进入生产阶段。 20、雅克科技：公司的光刻胶业务主要通过经营实体韩国Cotem公司以及韩国斯洋具体开展。公司的光刻胶产品主要包括正性TFT薄膜电路正性光刻胶、RGB彩色光刻胶、OCPS光刻胶、CNT防静电材料以及光刻胶配套试剂，客户涵盖京东方、华星光电、广州LGD、惠科等。以上内容仅供参考，不作为操作依据。股市有风险，投资需谨慎。

光刻机概念核心公司名单（建议收藏）

和光刻机巨头ASML员工聊聊：ASML是一家什么样的公司？光刻机在芯片行业扮演怎样的角色？为什么ASML会成为光刻机行业巨头？作为行业巨头要如何持续创新？在ASML工作有什么感受？有哪些high点？又有哪些挑战？什么样专业和背景的人可以到ASML工作？「科技」「职场」「微博新知博主」@微博财经DannyData小丹尼的微博视频

光刻机产业链的核心公司。

光刻机产业链相关公司全梳理。这是你想要的光刻机产业链公司名单吗？赶紧看看有熟悉的吗！光刻机。

最新消息！美国为了阻止中国自研光刻机，开始让荷兰的光刻机公司倾销光刻机了，阿斯麦宣布将出货893亿的中国订单，其实这就是采用倾销的战术，挤压我们国产光刻机公司的市场，让国产光刻机公司没有收入去投入到更先进的光刻机的研发，跟之前解禁一些芯片厂可以出售成熟制程的芯片，目的就是挤占国产芯片厂的市场份额，减少国产芯片的生存空间。 1、技术封锁不成，改玩市场游戏：美国变着法子想遏制中国科技进步，这次用的是市场手段。 2、荷兰光刻机巨头阿斯麦的这波操作，看似是商业行为，实则背后或有更深层次的考量。美国这一策略，无疑是在技术封锁之外，开辟了新的“战场”。国产光刻机企业，如何在市场压力下求生存，成为摆在我们面前的一大难题。 3、倾销光刻机，看似给了我们优惠，实则暗藏杀机。美国此举，无疑是在打压国产光刻机的崛起。但我们也不能因此气馁，毕竟自主创新才是硬道理，只有掌握核心技术，才能在国际竞争中立于不败之地。 4、面对美国的市场手段，国产光刻机企业能否逆境求生？这不仅是一场技术的较量，更是企业智慧和勇气的考验。如何在夹缝中求生存，或许正是国产光刻机企业成长的必经之路。 5、倾销策略的背后，是美国对中国科技进步的焦虑。他们害怕中国的崛起，试图通过各种手段遏制我们的发展。然而，历史告诉我们，封锁和打压只会让我们更加坚定地走自力更生的道路。 6、国产光刻机企业在市场竞争中，不仅要面对外部的压力，还要克服内部的困难。如何提高自身研发能力，降低成本，提升产品质量，是摆在他们面前的关键课题。 7、美国此举引发争议：市场竞争是否应该遵循公平原则？倾销行为是否违背了国际贸易规则？这些问题值得我们深思，也期待有关部门采取措施，维护国产光刻机企业的合法权益。 8、倾销光刻机，看似短期内对我们有利，实则损害了国产光刻机企业的长远发展。我们应提高警惕，避免陷入“温水煮青蛙”的困境，坚定支持国产光刻机企业的发展。 9、在这场市场游戏中，国产光刻机企业并非孤军奋战。国家政策的支持、社会资本的投入，都是他们坚强的后盾。只要我们团结一心，必定能战胜一切困难。 10、美国的市场手段，或许能暂时影响国产光刻机企业的市场地位，但无法阻挡我国科技进步的步伐。我们应以此次事件为契机，加大研发力度，突破核心技术，让国产光刻机走向世界。 11、倾销光刻机事件，再次提醒我们：核心技术必须掌握在自己手中。依赖他人，终究受制于人。国产光刻机企业，任重而道远，但我们相信，他们一定能迎难而上。 12、这场市场争夺战，不仅关乎国产光刻机企业的命运，更关系到我国半导体产业的未来。我们不能掉以轻心，必须全力以赴，捍卫国家利益。 13、美国的市场策略，或许能让国产光刻机企业暂时受挫，但长远来看，这种做法只会激发我们的斗志。相信在不久的将来，国产光刻机必将崛起，打破国际垄断。 14、面对美国的市场手段，我们既要保持警惕，也要保持冷静。国产光刻机企业应抓住机遇，加快创新，提升自身竞争力，让世界见证中国智造的力量。 15、这场光刻机市场的风波，让我们再次认识到：自主创新是民族进步的灵魂。只有坚定不移地走自主研发的道路，我们才能在激烈的国际竞争中立于不败之地。最后，让我们共同期待国产光刻机企业破茧成蝶的那一天，也为他们的努力喝彩！欢迎大家在评论区留言讨论，你们对我国光刻机产业的发展有何建议和期待？

英诺激光：拥有激光器等核心器件能力的激光解决方案提供商，通过对“光源+光学/运控/视觉+工艺”的深度定制为下游行业提供最具创新性的解决方案。公司激光器销量较好，凭借创新开发性能领先的激光器产品，不断拓展产品应用场景，行业领先；公司注重将技术领先优势转化为成本领先优势，不断强化产品的竞争力。生物医疗方面，公司围绕高值植/介入医疗器械的CDMO服务，公司光声显微镜项目持续取得进展。公司已布局多种光伏领域的创新提效技术，新开发的“LACE激光辅助化学腐蚀设备”进入头部客户中试阶段，“XBC激光图形化设备”项目有序推进。公司主要提供碳化硅退火制程的激光器、硅基半导体的激光器及陶瓷基底芯片加工设备等。新一代显示方面，公司是行业内率先提出采用紫外和深紫外固体激光器取代准分子激光器方案的公司之一，也是行业内有望从激光器到激光剥离、巨转、修复、焊接整线设备实现完全自主研发的公司之一。超硬材料方面，公司现已推出一系列激光器和激光模组，开拓了如全球行业龙头DiamondFoundry等国内外客户。

这变化！国产光刻胶崛起，阿斯麦"爆雷"引发行业震动半导体行业向来被视为"科技皇冠上的明珠"，其中光刻技术更是至关重要的核心环节。光谷企业太紫微公司推出的T150A光刻胶通过半导体工艺量产验证，这无疑是国产光刻胶取得的重大突破。全球光刻机巨头阿斯麦最新披露的财报却令人意外地"爆雷"。这两个事件的交织,引发了业内外广泛关注。光刻技术在半导体制造中扮演着举足轻重的角色。它决定了芯片的尺寸和性能,是实现集成电路不断缩小和性能不断提升的关键所在。长期以来,这一核心技术一直被少数跨国企业垄断,国内企业很难实现突破。但如今,太紫微公司的新产品T150A光刻胶,打破了这一局面。 T150A光刻胶采用自主研发的配方,在关键性能指标上均达到或超过国际同类产品。业内人士指出,这款产品不仅填补了国内空白,更在某些指标上优于进口产品。更为关键的是,它已通过半导体工艺量产验证,这意味着国产光刻胶正式进入产业化阶段,为我国半导体产业链的自主可控注入了新的动力。 "这是我国光刻胶领域的一次重大突破,对于缩小我国与国际先进水平的差距,增强半导体产业链的自主可控能力,都具有重要意义。"业内分析人士表示,太紫微公司的创新成果不仅彰显了国内企业的研发实力,也为我国光刻技术的自主化发展指明了方向。然而,就在国产光刻胶传来捷报之际,全球光刻机巨头阿斯麦却在最新财报中"爆雷"。阿斯麦是目前全球光刻机市场的绝对主导者,在先进制程光刻机领域更是独占鳌头。但财报数据显示,该公司在2022年第三季度的营收和利润均大幅下滑,远低于市场预期。分析人士指出,阿斯麦的业绩下滑与多方面因素有关。一方面,受到疫情、地缘政治等外部因素的影响,下游客户的投资意愿有所降温,导致订单量下滑。另一方面,中国市场的需求放缓也是重要原因之一。 "阿斯麦的业绩下滑,很大程度上反映了全球半导体产业链格局正在发生变化。"有分析师指出,"中国企业在光刻胶等关键材料领域的突破,无疑会对阿斯麦等老牌巨头构成挑战,未来市场格局或将发生重大调整。" 毫无疑问,太紫微公司的创新成果和阿斯麦的业绩下滑,都预示着光刻技术领域格局正在发生深刻变革。这不仅关乎着半导体产业的未来走向,也与我国科技自立自强的宏大目标息息相关。

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