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asml公司权威发布_asml公司官网(2024年12月精准访谈)

内容来源：威名网所属栏目：观点更新日期：2024-11-29

asml公司

拜登这几年打击中国芯片产业可谓不遗余力，他倒不像特朗普那样天天盯着中国的出口商品关税，但却似乎天天盯着中国的半导体产业，正是拜登，限制荷兰ASML公司向中国出口光刻机；拜登签署了《芯片与科学法案》，要求所有美国半导体设备企业不要向中国供应用于生产14 纳米以下先进芯片的制造设备，这种举措真是坏呀。「羽绒服一天一个价」

德国EUV光刻技术背后的“三巨头” 德国在EUV光刻技术领域取得了显著成就，这离不开几位关键人物的贡献。弗劳恩霍夫应用光学与精密工程学院的Sergiy Yulin博士、卡尔蔡司的Peter K㼲z博士以及通快激光系统公司的Michael K㶳ters博士，这三位科学家组成的团队在2020年11月25日获得了“德国未来奖-联邦总统技术与创新奖”。 𐟌 他们的团队致力于EUV光刻技术的研究、开发和工业化，取得了重大进展。这项技术能够生产出更强大、更节能和更具成本效益的微芯片，为日常生活数字化、自动驾驶、5G和人工智能等应用提供了基础。 𐟒𜠥‡�Ÿ这项技术，卡尔蔡司和通快已经创造了3,300多个高科技工作岗位，2019年的年营业额超过10亿欧元，并且呈上升趋势。 𐟔젅UV代表“极紫外线”，是一种具有极短波长的光。荷兰ASML公司是世界上唯一的EUV光刻机制造商，而德国的这些团队为其提供了关键部件。 𐟔砤𘺤𚆤𝿧”腕V光源，卡尔蔡司SMT GmbH和位于耶拿的弗劳恩霍夫应用光学与精密工程研究所的研究人员开发了一种仅由反射镜组成的光刻系统，适合在高真空下使用。通快的研究团队则研发了全球范围内最强大的CO2激光器，用于产生EUV光源。 𐟒𐠨‡걹98年以来，德国联邦教育与研究部批准了约1.25亿欧元的光刻技术项目，其中约9600万欧元用于EUV特定项目。欧洲的许多倡议也对此做出了贡献，例如今年发布的电子研究倡议ECSEL和微电子领域的“欧洲共同利益重要项目”（IPCEI）。 𐟌Ÿ 这些努力不仅推动了技术的进步，也为德国的光刻产业带来了巨大的经济和社会效益。

差距100倍！俄罗斯光刻机制造成功，算不算一大进步！莫笑差距100倍，俄罗斯首台光刻机成功问世，仅有350纳米芯片技术！距离目前主流先进的光刻机差距70-100倍！荷兰ASML公司的极紫外光刻机（EUV），可以实现5纳米甚至3纳米制程水平。莫要嘲笑，能造350nm光刻机，说明基本上已搞懂光刻机原理了，目前世界上没有几个国家能掌握光刻机原理！剩下只需要时间追赶，坚持不30年或者50年终能追上，西方光刻机越往后发展越慢！好歹也是一个好的开始，有一就有二！大家不要再嘲笑了，虽然商用价值为0，至少导弹够用了！

【中国突然申请7纳米光刻机专利】近日，有消息称上海微电子设备股份有限公司提交了一项7纳米级光刻机的专利申请，这可把业内人士给炸开了锅。长期以来，这块市场一直被荷兰ASML公司牢牢把控。2001年，上海微电子推出了国内首台SBA-218系列5代半导体光刻机，这可是一个里程碑式的成就。这次7纳米光刻机专利的申请，可以说是上海微电子多年努力的结晶。有业内人士透露，上海微电子这次的专利涉及了很多创新技术，比如光学系统优化、精密机械控制等。光刻机可是半导体行业的"命脉"，谁掌握了这项技术，谁就在行业里占据了制高点。

半导体美方两议员在给KLA、AMAT、LAM、TEL及ASML的信中写道：人工智能作为中美竞赛的核心，而当前中国大陆采购半导体设备金额比美国、韩国、TW加起来都多，导致中国对美方制裁感到不那么紧张，或将使中国在人工智能领域继续取得进展。文中也写道：虽然部分企业认为应该维持现有限制或削弱想这些控制，但议员们认为加强出口控制并不与强大繁荣的企业相互排斥。信中要求这些公司在 12 月 1 日之前提交以下信息：按收入计算，其在中国的前 30 名客户、对某些国家安全或限制贸易名单上的公司的销售情况，任何将制造业务从美国转移到海外的计划，以及自2021年1月1日以来发往中国能运行14nm及7nm设备年度数量等。此次要求补充的13条信息非常具体，我们认为后续美国及其盟友或将继续加紧对华半导体设备限制。 ASML映射：国内GKJ产业链（福光股份、茂莱光学、汇成真空、创元科技）；KLA映射：量/检测设备（精测电子、中科飞测）；TEL映射：涂胶显影设备（芯源微）；AMAT及LAM映射：刻蚀及薄膜设备（北方华创、中微公司、拓荆科技），设备零组件（江丰电子、富创精密、正帆科技）等。海外加大对中国先进制程芯片供应限制 11月8日，金融时报援引知情人士的话说，台积电对中国客户单方面表示，该公司从下周一（11/11）起将无法继续为它们生产7nm或以下的先进制程芯片。据日经亚洲报道称，受影响的是使用7nm或以下工艺从事高性能计算、GPU和AI计算相关应用的客户，而不是那些从事移动、通信和连接相关应用的客户。过去几年，美国和其盟友一直加紧对于中国半导体的管控和限制。我们认为国内半导体往先进制程发展是势不可挡的大趋势，而海外的围堵给了国产供应链崛起的历史机遇。建议关注：晶圆代工和先进封装：中芯国际、长电科技、通富微电等；核心设备龙头：北方华创、中微公司、拓荆科技、盛美上海等；低渗透率卡脖子环节：精测电子、中科飞测、芯源微等； GKJ供应链：茂莱光学等。先进制程IP/EDA：灿芯股份、华大九天、概伦电子、广立微等。「微博股票超话」「股市」

佳能2024年推出低成本芯片制造设备佳能计划在2024年推出一种颠覆性的低成本芯片制造设备，以改变整个行业的格局。佳能的高管武石洋明在1月27日的一次采访中透露，公司正在开发一种采用纳米压印技术的光刻设备FPA-1200NZ2C，预计将在今年或明年正式上市。去年10月，佳能宣布推出FPA-1200NZ2C，声称这款设备能够制造5纳米芯片。佳能方面表示，新设备的成本将比荷兰ASML的EUV设备少一个数量级，同时耗电量也将减少90%。这项技术的推出将大大降低芯片制造的成本，同时提高生产效率，对半导体行业产生深远影响。

中国自主研发的光刻机成功交付使用，打破国外垄断，标志着芯片制造领域的重要突破，激发了国人信心与期待。 1.光刻机交付中国第一台自主研发的光刻机成功交付，为芯片制造提供关键设备。 2.打破垄断此次成功交付意味着中国打破了荷兰ASML公司在光刻机市场的长期垄断。 3.技术突破与信心 28纳米工艺的成功并非止步，而是中国芯片产业技术突破与产业信心的体现。 4.未来展望光刻机的成功交付被视为中国芯片产业发展的新起点，未来有望在更广泛的半导体领域取得进展。以上内容由AI检索𐟧 生成，你也可以捏合屏幕𐟤生成属于你的专属内容 @捏一下小助手

中国自主研发的28纳米光刻机成功交付使用，打破国外技术垄断，推动芯片产业进步，提升国家科技能力。 1.光刻机突破中国科研人员历经10年努力，成功研发28纳米光刻机，实现芯片制造关键设备国产化。 2.技术依赖过去几十年，全球芯片制造高度依赖荷兰ASML公司的高端光刻机，中国自主研发光刻机势在必行。 3.产业链影响光刻机技术的突破不仅激励了整个芯片产业链，也提升了国家科技能力和全民科技自信。 4.社会关注光刻机成功研发引发社会各层热烈讨论，网友纷纷表达对科研人员的敬意，科技成为社会关注的焦点。原文链接：以上内容由AI检索𐟧 生成，你也可以捏合屏幕𐟤生成属于你的专属内容 @捏一下小助手

英特尔再购光刻机，芯片提速！英特尔在8月1日的财报电话会议上透露，公司正在接收第二台价值3.5亿欧元（约3.83亿美元）的ASML High NA EUV光刻机。这一设备将安装在俄勒冈工厂，预计将支持新一代更强大的计算机芯片。英特尔的首台High NA EUV设备已于去年12月开始安装，并计划在2027年前投入商业生产。此次安装过程需要数月时间，显示出英特尔在技术投资上的积极进展。 ASML作为全球最大的计算机芯片设备供应商，一直拒绝就具体客户采购发表评论。不过，ASML高管在7月表示，公司已经开始向一位未透露姓名的客户运送第二台High NA设备，今年将只记录第一台设备（可能还有第二台）的销售收入。 ASML的成功推出High NA EUV设备是其未来成为欧洲最大科技公司的关键。尽管客户何时会采用这种技术仍存在疑问，但ASML已经从领先的芯片制造商如台积电、三星电子、英特尔以及SK海力士和美光等处获得了十多台High NA设备的订单。英特尔计划在2027年前将High NA EUV技术用于商业生产，而台积电则计划在2027年将一台High NA EUV设备用于生产，但尚未透露具体时间。ASML CEO Christophe Fouquet在7月表示，DRAM内存芯片制造商（如三星、SK海力士或美光）可能会在2025年或2026年开始使用High NA EUV设备。这一系列投资和合作表明，英特尔在芯片制造技术上的不断进步，并期待通过引入新的光刻设备来提升其市场竞争力。

三星拟购50台EUV光刻机最近有消息称，三星计划在未来五年内从荷兰的ASML进口多达50台EUV光刻机，以加强其在芯片制造领域的竞争力。尽管具体细节尚未公布，但每台设备的价值大约为1.53亿美元。 EUV光刻机在先进制程芯片制造中至关重要，占据了总时间和总成本的一半以上。由于这种设备的复杂性，ASML每年只能制造约60台，而全球五大芯片制造商都依赖ASML的EUV光刻机，包括英特尔、美光、三星、SK海力士和台积电。目前，ASML约有70%的EUV光刻机被台积电购买。三星的晶圆代工厂是全球首家制造3nm制程芯片的公司，但在订单承接上不及台积电，后者已经为苹果量产3nm的A17 Pro芯片和M3系列芯片。预计三星将于2024年上半年开始量产其第二代3nm芯片，2025年可生产2nm制程芯片，2027年生产1.4nm制程芯片。为了确保能够从ASML获得稀有的EUV光刻机，三星电子董事长李在镕在2022年前往荷兰，会见了ASML首席执行官Peter Bennink。最近有报道称，韩国总统应荷兰国王Willem Alexander的邀请，将与三星电子董事长李在镕和SK集团董事长崔泰源一同访问荷兰，暂定日期为12月12至13日。三星作为世界第二大合约芯片制造公司，希望与台积电争夺领先地位，目标是到2030年成为全球最大的半导体芯片制造公司。

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